En microélectronique, cette technique a été édaptée depuis peu à la lithographie optique qui consiste à photo-imprimer le masque des midtifs des composants sub-micrométriques sur des résines photosensibles déposées sur des plaques de silicium.  La limite de résolution des motifs est alors dictée par l'optique et la diffraction. En utilisant l'immersion, il est alors possible de descendre la limite de résolution et d'obtenir des motifs plus fins et mieux résolus.

Dans un article publié dans le volume du 10 mars 2006 d'Applied Optics, des chercheurs du NIST présente les données d'une étude réalisée sur des liquides qui pourraont permetre d'encore améliorer le ssystèmes de lithographie par immersion.

Alors que sur les prototypes  commerciaux emploient simplement de l'eau pour accroître la focalisation des rayons UV entre la lentille de sorie des objectifs et le silicium à imprimer, les chercheurs proposent des liquides à base de solvants organiques ou de solutions inorganiques.
En effet, pour avoir une meilleur ouverture numérique, il est préférable de disposer d'un liquide dont l'indice de réfraction est le plus fort possible.
Aussi, leur étude fait état de l'influence de la taille des molécules sur l'indice de réfraction, plus celle-ci étant élevé et plus l'indice augmente, mais aussi de l'importance de la température  qui doit être bien contrôlée afin d'assurer la stabilité de la focalisation au cours de l'impression.

Cette étude qui s'inscrit majoritairement dans le cadre publique pourra aider de nombreux chercheurs et ingénieurs à améliorer les propriétés de leurs liquides d'indice.

Source : EurekAlert