dimanche 26 février 2006
En microélectronique, les microprocesseurs les plus performants sont également ceux qui possèdent le plus grand nombre de transistors. Pour augmenter le nombre de ces composants sur un circuit dont les dimensions sont de quelques centimètres carrés, le meilleurs moyen est de réduire la taille de chaque composant.
Pour fabriquer un composant, l'opération débute par une opération appelée la photolithographie consistant en une photo-impression d'un masque représentant les  motifs des différentes parties des transistors et autres composants discrets à intégrer sur la puce sur une résine photosensible. De cette première étape va donc dépendre la taille et ainsi le nombre de chaque dispositif sur les quelques portions de surface de silicium allouées à la fabrication d'un microprocesseur.

Jusqu'à maintenant, le record de la plus petite dimension atteignait 32 nanomètres (un nanomètre représentant une dimension 100 000 fois plus petite qu'un cheveux). Des ingénieurs et chercheurs des laboratoires de la société IBM ont une nouvelle fois réussi à descendre au delà de cette limite, défiant les lois de l'optique imposant les limites de résolution dictées par les lois de Rayleigh appliquées sur la longueur d'onde de la lumière employée pour procéder à l'insolation de la résine sous le masque de photo-lithographie.

Pour atteindre ces dimensions, les chercheurs ont utilisé une technique d'immersion se basant sur le fait qu'en présence d'un milieu d'indice de réfraction supérieur à celui de de l'air la longueur d'onde de la lumière semble plus faible que dans l'air, autorisant de descendre la limite de résolution.
Cette technique porte le nom de lithographie interférentielle sous immersion et permet de dessiner des motifs dont les dimensions descendent jusqu'à 29,9 nanomètres.

Cette nouvelle évolution indique que le développement des techniques par immersion laisse encore espérer à des avancées vers des dimensions toujours plus faible en microélectronique. Les ingénieurs d'IBM, du fait que leurs travaux ont été fructueux, prévoient de continuer les recherches pour tenter d'élaborer des matériaux aux indices de réfractions encore plus élevés pour obtenir des résolutions plus puissantes.

Source : NanotechWeb

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