| Une nouvelle méthode de lithographie pour l'ingénierie des microprocesseurs développée au Rochester Institute of Technology (R.I.T.) a permi de réaliser une image à des dimensions que les physiciens n'imaginaient pas atteindre. |  |
| Bruce Smith, professeur d'ingénierie de la microélectronique et directeur du Center for Nanolithography Research du Kate Gleason College of Engineering a élaboré une technique appelée la nanolithographie par ondes évanescentes (EWL : Evanescent Wave Lithography) qui a pu donner une image optique de la plus petite srtucture géométrique semi-conductrice jamais élaborée. Piloté par Yongfa Fan, un thésard de Smith, l'expérience a permis d'obtenir une résolution de 26 nanomètres, une dimension qui ne peut être classiquement atteinte que par des rayonnements ultra-violets très durs, ce qui fait descendre ainsi la limite de résolution optique d'imageire à un vingtième de longueur d'onde soit à l'extrème limite des modèles classiques de la physique. Les résultats de ces travaux seront présentés au cours d'un séminaire qui aura lieu le 21 février prochain à San Jose en Californie. Ecouter le Podcast de cette article  Source : RIT | |
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Tom
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